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美國Laurell濕法腐蝕機(jī) 詳細(xì)摘要: 一、濕法腐蝕機(jī)用途和特點(diǎn):1、用途:主要用微細(xì)加工、半導(dǎo)體、微電子、光電子和納米技術(shù)工藝中在硅片、陶瓷片上顯影,濕法腐蝕,清洗,沖洗,甩干與光刻、烘烤等設(shè)備配合...
產(chǎn)品型號:EDC-650Hz-8NPPB 所在地:香港特別行政區(qū) 更新時(shí)間:2022-10-21 參考價(jià): 面議 在線留言 -
濕法刻蝕機(jī)臺 詳細(xì)摘要: 1、用途:主要用微細(xì)加工、半導(dǎo)體、微電子、光電子和納米技術(shù)工藝中在硅片、陶瓷片上顯影,濕法腐蝕,清洗,沖洗,甩干與光刻、烘烤等設(shè)備配合使用。設(shè)備能滿足各類以下尺...
產(chǎn)品型號:EDC-650Hz-15NPPB 所在地:香港特別行政區(qū) 更新時(shí)間:2022-10-21 參考價(jià): 面議 在線留言 -
勻膠顯影機(jī) 詳細(xì)摘要: 650型勻膠顯影機(jī)適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝,制版的表面顯影。一般勻膠顯影機(jī)由動力系統(tǒng)、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 (水)輥、...
產(chǎn)品型號:EDC-650MZ-23NPP 所在地:香港特別行政區(qū) 更新時(shí)間:2022-10-21 參考價(jià): 面議 在線留言